Residual Stress Measurement Methods VI

Thursday, October 23, 2025: 9:00 AM-10:20 AM
9:00 AM
Non-Destructive Evaluation of Residual Stress in Thermal Barrier Coatings: Raman and Photoluminescence Spectroscopy Techniques
Mr. Srikanth Batna, Indian Institute of Technology Bombay; Mr. Sairam Ramachandran, Indian Institute of Technology Bombay; Prof. Ashutosh S. Gandhi, Indian Institute of Technology Bombay
9:20 AM
Inversion of Internal Stress from the Nonlinear Ultrasound Spectroscopy Measurments
Mr. Yoganandh Madhuranthakam, Michigan State University; Prof. Sunil Kishore Chakrapani, Michigan State University
9:40 AM
Stress assessment from magnetic measurements
Mr. Eric WASNIEWSKI, Sorbonne Université, CNRS, Laboratoire de Génie Électrique et Électronique de Paris; ELyTMaX IRL3757, Univ Lyon, INSA Lyon, Centrale Lyon, Université Claude Bernard Lyon 1, Tohoku University; Université Paris-Saclay, CentraleSupélec, CNRS, Laboratoire de ; Prof. Laurent DANIEL, Université Paris-Saclay, CentraleSupélec, CNRS, Laboratoire de Génie Électrique et Électronique de Paris, Sorbonne Université, CNRS, Laboratoire de Génie Électrique et Électronique de Paris; Dr. Benjamin DUCHARNE, Univ Lyon, INSA Lyon, LGEF, ELyTMaX IRL3757, Univ Lyon, INSA Lyon, Centrale Lyon, Université Claude Bernard Lyon 1, Tohoku University; Dr. Fan ZHANG, CETIM
See more of: Technical Program
<< Previous Session | Next Session >>